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产品与解决方案

电池片硅片自动化设备

立式旋转腔 PVD镀膜设备

特点描述

立式旋转腔设计,减少设备长度,减少占地面积;
2800mm平面阴极,大幅宽大产能设备设计;
智能化工艺(yi)程序管(guan)理,实时数据(ju)记录。

技术性能

  • 基板大小:1200mm*2400mm*2.2~3.2mm;
  • 节拍:35s;
  • 工艺速度:40mm/s;
  • 碎片率<0.1%;
  • 无效边区域<5mm;
  • 片间/片内均匀度<5%。

 

技术参数

设备尺(chi)寸(cun):43700mm*11480mm*5200mm(含自动(dong)化)

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